Ванна ультразвуковая промышленная 800 "Сапфир" ТТЦ (РМ) четыре блока управления

Промышленные УЗВ «Сапфир» – это ванны с цифровым управлением мощности ультразвука и временем обработки. Установка температуры – аналоговая.

Ультразвук с частотой 28 кГц оказывает более “жесткое” воздействие на поверхность обрабатываемых изделий, чем при частоте 35 кГц (как у ванн “Сапфир”): кавитационные пузырьки у ванн промышленных УЗВ «Сапфир» более крупные и выделяют при “взрыве” существенно большую энергию.

Это бывает важным при удалении сильных загрязнений (“грубая очистка”), а также очистке изделий с неровной, шероховатой поверхностью.

Ванны “ТТЦ + РМ” – дополнительно оснащены регулятором мощности (РМ) и режимом дегазации моющего раствора (Д).

Регулировка мощности ультразвука, как правило, используется в сторону снижения (для перехода в «щадящий» режим) для обработки чувствительных изделий, таких как изделия из керамики, кристаллов, элементы электроники и оптики.

Основной перечень загрязнений которые эффективно очищают промышленные ультразвуковые ванны Сапфир:

• Минеральные и синтетические масла, продукты нефтепереработки, СОЖ, консервационные смазки, машинные смазки, графитная смазка, солидол и так далее;
• Различные флюсы как водорастворимые, так и спирторастворимые с одновременным удалением механических и жиро-маслянных загрязнений;
• Лакокрасочные изделия: порошковые краски, защитные лаки, спиртовые и водоэмульсионные краски и так далее;
• Полировальные, доводочные, притирочные, сверлильные и так далее пасты, в том числе паста ГОИ;
• Жиро-масляные загрязнения органические: растительного или животного происхождения;
• Механические загрязнения: пыль, грязь, накипь, водяной камень и тд;
• Нагары и пригары, продукты горения, сажа, копоть;
• Оксиды металлов, ржавчина.

Технические параметры промышленной ультразвуковой ванны 800л Сапфир ТТЦ+РМ

Область применения:
ювелирная, химическая, электронная, автомобильная промышленности, стоматология, машиностроение, медицина.
УЗВ используют для смешивания эмульсий, ускорения химических реакции и т.д.
Рабочая температура: максимальная 70 градусов, рекомендуемая (оптимальная) 50-60 градусов.